碳化硅/碳化钽涂层石墨
石墨矩阵碳化硅（SiC）涂层：耐高温 & 耐腐蚀
石墨基体的SiC涂层采用化学气相沉积（CVD）技术制备，在高温和腐蚀性环境中可提供卓越的保护性能。其独特的微观结构及精密设计的沉积工艺，使其成为半导体晶体生长、SiC外延以及光伏应用领域的首选材料。
关键特性
可定制的涂层纹理结构
该涂层的晶粒尺寸为10-20μm，能够根据客户的具体要求，均匀排列不同大小的晶粒。
高纯度
我们的SiC涂层纯度极高，灰分含量低于5ppm，确保符合严格的半导体及高科技行业标准。
精准遮罩能力
可根据客户需求采用选择性涂层，实现掩膜涂覆工艺，从而在专业应用中实现部分区域的局部涂覆。
高均匀性与低表面粗糙度
我们的涂层表面粗糙度为2-10μm，标准厚度为100μm（公差控制在±15μm以内），无需二次抛光，完全满足精密应用的严格要求。
行业领先的“无支撑”涂层技术
我们的先进沉积技术可实现单步涂层成型，无需在支撑点上进行二次掩膜，从而确保卓越的涂层完整性。
全面质量控制与检测
我们的涂层经过严格的质量保证流程，包括：
纯度分析
厚度测量
粘附力测试
室温及高温剥离试验
此外，我们支持客户指定的任何检验，以确保完全符合其要求。
石墨基TaC涂层（TaC）：超高温及耐腐蚀性能
钽碳（TaC）的熔点高达3,880°C，是目前耐温性能最强的涂层之一，特别适用于蚀刻系统和航空航天部件等极端热工应用领域。石墨基体公司提供专为需极高耐腐蚀性和热稳定性应用而设计的钽碳（TaC）涂层。
关键特性
基于CVD的沉积
我们的TaC涂层采用CVD技术涂覆，膜厚达20-50微米，在高温条件下能有效抵御氨气（NH₃）、氢气（H₂）及氯化氢（HCl）气氛的化学侵蚀。
超纯
该涂层保持超高品质，灰分含量低于5ppm，确保符合半导体及高科技行业的严格标准。
卓越的热稳定性与更长的使用寿命
我们的TaC涂层具有卓越的热稳定性及更长的使用寿命，可有效减少分层现象，在严苛环境中表现优于传统涂层。
严格的质量保证
我们实施全面的质量控制措施，包括：
纯度分析
厚度测量
粘附力测试
室温及高温剥离试验
此外，我们支持客户定制的检验，以确保完全符合客户的要求。
