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石墨基体的尖端纯化技术重新定义了超高纯度标准。
12/19
2024
作为全球领先的碳基解决方案开发与生产企业之一，石墨基质公司一直致力于优化其纯化技术，以满足半导体、光伏及其他行业应用不断变化的需求。自2019年我们自主研发出尖端纯化设备以来，便持续对其进行改进与升级，确保始终领先于市场趋势。目前，我们已拥有15套纯化系统，能够为客户提供量身定制的解决方案，精准满足客户的个性化需求。
创新的多步纯化方法 流程
石墨基体采用先进的多步纯化技术，通过一系列高度可控的纯化循环，精准去除元素杂质。
净化循环包括三个阶段：
1) 化学气相渗透：利用氯气和氟气等卤素气体，这一阶段与金属杂质发生反应并将其去除。
2) 高温热升华法：将石墨加热至3000°C以上，使杂质在汽化过程中被去除，而石墨结构则保持完整。
3) 物理吸附：采用活性炭等高性能吸附剂，这一最终阶段可捕获残留的微量杂质，确保材料达到卓越纯度。
这一过程被应用于多个迭代循环中，每次重复都能进一步降低杂质含量，最终使石墨的杂质水平达到5ppm或1ppm，满足半导体行业的最高标准。
性能卓越的高纯石墨部件
我们提供用于碳化硅合成的高品质石墨粉，以及面向半导体行业的多种高纯度石墨元件。在中国，我们的客户已覆盖碳化硅晶体生长市场超过85%的份额，市场占有率约达30%。同时，我们长期以来一直是天科蓝、比亚迪、三安等顶尖企业的主要供应商。
通过整合多步骤纯化工艺，并对杂质含量实施高精度质量控制，石墨基体为依赖高纯度石墨的行业提供了定制化且可靠的解决方案。作为首批将杂质控制稳定在5 ppm以内的制造商之一，我们始终致力于突破创新的极限。尤为值得一提的是，2024年，我们取得了突破性进展，将杂质含量进一步降至1 ppm甚至更低。
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