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下一代碳化硅与碳化钽涂层
03/12
2025
在石墨基体公司，我们已开发出一种CVD涂层系统，可实现碳化硅（SiC）和碳化钽（TaC）涂层石墨部件的行业领先性能。我们的先进涂层工艺确保涂层石墨产品的杂质含量低至5 ppm以下。此外，我们的产品经过严格的质量检测，充分满足客户的需求。我们还提供全面的材料特性分析服务，包括表面形貌、晶粒尺寸、涂层后硬度、粗糙度、厚度，以及辉光放电质谱（GD-MS）和电感耦合等离子体质谱（ICP-MS）检测。我们的碳化硅（SiC） 涂层技术在晶圆可用于电子设备之前，必须经过多个关键的加工步骤，而硅外延生长便是其中最为重要的一环。在此过程中，一层薄薄的高纯度晶体薄膜会被沉积到硅晶圆表面，以提升其电学性能。这些晶圆由石墨托盘支撑，置于高温化学气相沉积反应器内；而托盘的质量与特性，对整个工艺过程起着至关重要的作用。 确定 外延层的均匀性、纯度及整体性能。我们的 碳化硅- 涂层石墨托盘具有卓越的纯度、均匀的涂层以及更长的使用寿命。其涂层晶粒结构为 优化的 颗粒尺寸介于10-20微米之间，我们可根据客户需求均匀排列不同粒径。此外，我们还提供选择性涂层服务。 服务 ，应用 碳化硅 仅在……地方 所需 .我们的涂层表面粗糙度范围为2-10μm，最终涂层厚度为100μm ± 15μm。先进的 涂层工艺 确保表面光滑均匀， 避免 对二次抛光或机械加工的需求。 一个 重大突破 我们采用的是行业领先的无固定涂层技术，该技术可实现一步施工，确保全面覆盖，无需额外步骤。 一个 额外的 遮罩或夹具调整。这一创新使涂层表面实现无缝、无缺陷的效果。 米 保持 我们采用最高质量标准，对涂层进行严格的质量检测，包括厚度测量和拉拔附着力测试。碳化钽（TaC） ）涂层技术碳化钽以其卓越的硬度和高熔点而闻名，其熔点超过3800°C，因此非常适合需要优异耐磨性和极强耐温性能的应用。航空航天、半导体及高温制造等行业均依赖化学气相沉积（CVD）技术。 碳化钽 涂层，以延长关键部件的使用寿命，同时降低维护成本、提升运营效率。由……形成的保护屏障 碳化钽 涂层可增强耐热性、机械强度及防污染性能，使其成为应对极端高温、高压和化学腐蚀的宝贵解决方案。我们的涂层厚度范围为20至50微米。 碳化钽 具有卓越的化学 resistance， 展示 抗氨气（NH₃）、氢气（H₂）和氯化氢（HCl）的稳定性 高温 .探索我们的先进涂层解决方案在石墨基体公司，我们不断开发并完善我们的 材料 与半导体制造商合作 . 我们的优势 塞德 碳化硅 - 和 碳化钽 - 涂层石墨部件旨在提升外延效率，实现高精度 n，纯度，以及扩展 组件 寿命。 与此同时，这些涂覆石墨部件具有卓越的热稳定性和耐化学性，确保在极端环境下也能实现可靠性能。 .为了 更多关于用于硅外延或先进碳化物涂层的高纯石墨susceptor的详细信息，我们的团队随时为您提供帮助，助您找到最佳解决方案，以提升性能、延长使用寿命并确保工艺稳定性。 .
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